实践证明,电解液温度升高,氧化膜溶解速度加快,膜层生长速度减慢。在无添加剂的硫酸电解液中如温度超过26℃,生长的膜层疏松有粉末,耐蚀性能下降。电解液温度低,氧化膜层溶解速度慢,膜层生长速度快。
温度越低,越易生长出厚且致密的膜层。普通阳极氧化,温度在17~22℃为宜。在这个温度下生成的膜层多孔,吸附性能好,富有弹性,抗蚀性能较好,但耐磨性能不太理想。当溶液中加入2%左右的草酸后,氧化温度可达30℃。硬质阳极氧化温度在10℃以下。温度与膜厚的关系曲线见图7-6,温度与氧化膜层抗蚀性能关系曲线见图7-7。
图7-6 温度与膜厚的关系曲线
图7-7 氧化液温度与氧化膜层抗蚀性能关系曲线